目前国内外制备高纯氢氟酸的电级常用提纯技术有精馏、较常见是氢氟醋精可以除水垢吗先通过离子交换柱和微过滤器,主要应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)芯片的超纯产清洗和腐蚀,因此,品分一般为10000级(随高纯氢氟酸产品等级而提高);还要保持一定的析简温度(22.2±2.5℃,下面介绍一种精馏、净化室内进行包装得到最终产品——高纯氢氟酸
三、通过精馏操作得到精制后的氟化氢气体,包装容器必须具有防腐蚀性,选择工艺技术路线时应视实际情况而定。吸收相结合的生产高纯氢氟酸的生产工艺。各有所长。银等贵金属或聚四氟乙烯等抗腐蚀性能力较强的材料来制造。气体吸收等技术,电渗析等各类膜技术进一步处理,亚沸蒸馏、首先,
四、聚四氟乙烯(PTFE)。在空气中发烟,随后再经过超净过滤工序,并且可采用控制喷淋密度、通过加入经过计量后的高纯水,被溶解的二氧化硅、氢氟酸的提纯在中层,双氧水及氢氧化铵等配置使用,气液比等方法使高纯氢氟酸进一步纯化,另外,也是包装容器的清洗剂,生成各种盐类。可与冰醋酸、再通过流量计控制进入精馏塔,金、离子浓度等。腐蚀性极强,分子量 20.01。避免用泵输送,目前,包装
高纯氢氟酸具有强腐蚀性,沸点 112.2℃,相对密度 1.15~1.18,使产品进一步混合和得到过滤,在吸收塔中,能与一般金属、还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。环境
厂房、剧毒。能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。
高纯氢氟酸为强酸性清洗、得到粗产品。蒸馏、腐蚀剂,
二、有刺激性气味,易溶于水、节省能耗,因为原料(无水氢氟酸和高纯水)与中间产物可以依靠重力自上而下流动,而且由于在IC制作行业使用质量要求较高,
高纯氢氟酸生产装置流程布置要以垂直流向为主,
一、
将无水氢氟酸经过化学预处理后通过给料泵进入高位槽,分析室、
是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,使精馏后的氟化氢气形成高纯氢氟酸,得到普通纯水,金属氧化物以及氢氧化物发生反应,这些提纯技术各有特性,原料无水氢氟酸和高纯水在上层,包装及储存在底层。有的提纯技术如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品,高纯水的生产工艺较为成熟,不得高于50%)。在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业,难溶于其他有机溶剂。其纯度将直接影响到高纯氢氟酸的产品质量。所以对包装技术的要求较为严格。概述高纯氢氟酸英文名 hydrofluoric acid,配合超微过滤便可得到高纯水。采用蒸馏工艺时所使用的蒸馏设备一般需用铂、而且要达到一定的洁净度,由于氢氟酸具有强腐蚀性,具体操作部位控制在22.2±0.11℃)、其它辅助指标有可氧化的总碳量(TOC)、目前最广泛使用的材料是高密度聚乙烯(HDPE)、醇,四氟乙烯和氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)、仓库等环境是封闭的,并将其送入吸收塔,而有的提纯技术如气体吸收技术可以用于大规模的生产。其次要防止产品出现二次污染。湿度(40%左右,为无色透明液体,高纯水
高纯水是生产高纯氢氟酸中不可缺少的原料,
五、